Υλικό επίστρωσης PVD
-
![Ζιρκόνιο κοβαλτίου τανταλίου (CoTaZr) Στόχος κατάδυσης]()
Ζιρκόνιο κοβαλτίου τανταλίου (CoTaZr) Στόχος κατάδυσηςΤο Cobalt Tantalum Zirconium Sputtering Target παράγεται με τεχνολογία τήξης, συνήθως εφαρμόζεται για μαγνητικό πεδίο αποθήκευσης δεδομένων. Με καθαρότητα έως και 3N5, ομοιόμορφο μέγεθος κόκκων,...Πιο -
![Γαδολίνιο δημητρίου (CeGd) Στόχος κατάδυσης]()
Γαδολίνιο δημητρίου (CeGd) Στόχος κατάδυσηςΤο Cerium Gadolinium Alloy Sputtering Target (CeGd) είναι ένα βασικό υλικό στην εναπόθεση λεπτής μεμβράνης. Αυτό το κράμα, που συνδυάζει δημήτριο και γαδολίνιο, προσφέρει μοναδικές ιδιότητες για...Πιο -
![Βηρύλλιο Sputtering Target]()
Βηρύλλιο Sputtering TargetΤο βηρύλλιο είναι ένα ατσάλι-γκρι μέταλλο που είναι αρκετά εύθραυστο σε θερμοκρασία δωματίου και οι χημικές του ιδιότητες μοιάζουν κάπως με αυτές του αλουμινίου.Πιο -
![Χρώμιο (Cr) Sputtering Target]()
Χρώμιο (Cr) Sputtering TargetΟ στόχος εκτόξευσης χρωμίου έχει τις ίδιες ιδιότητες με το μεταλλικό χρώμιο (Cr), το χρώμιο είναι ένα χημικό στοιχείο με το σύμβολο Cr και τον ατομικό αριθμό 24, είναι ένα ατσάλι-γκρι, γυαλιστερό,...Πιο -
![Ρουθήνιο (Ru) Sputtering Target]()
Ρουθήνιο (Ru) Sputtering TargetΟ στόχος εκτόξευσης ρουθηνίου είναι ένας γκρίζος στόχος που αποτελείται από ρουθήνιο υψηλής καθαρότητας. Το ρουθήνιο είναι ένα χημικό στοιχείο με σύμβολο Ru και ατομικό αριθμό44. Είναι ένα σπάνιο...Πιο -
![Σκάνδιο (Sc) Sputtering Target]()
Σκάνδιο (Sc) Sputtering TargetΤο σκάνδιο είναι ένα χημικό στοιχείο με σύμβολο Sc και ατομικό αριθμό 21, Είναι ένα μαλακό, ασημί-λευκό μέταλλο μετάπτωσης με σημείο τήξης 1541 μοίρες και σημείο βρασμού 2831 μοίρες. Διαλύεται...Πιο -
![Στόχος σεληνίου (Se) Sputtering]()
Στόχος σεληνίου (Se) SputteringΤο σελήνιο είναι ένα μη μεταλλικό χημικό στοιχείο, μέλος της ομάδας XVI του περιοδικού πίνακα. Σε χημική δραστηριότητα και φυσικές ιδιότητες μοιάζει με θείο και τελλούριο. Το μέταλλο σελήνιο άγει...Πιο -
![Πυριτίου (Si) Sputtering Target]()
Πυριτίου (Si) Sputtering TargetΤο πολυκρυσταλλικό πυρίτιο, που ονομάζεται επίσης πολυπυρίτιο ή πολυ-Si, είναι μια υψηλής καθαρότητας, πολυκρυσταλλική μορφή πυριτίου, που χρησιμοποιείται ως πρώτη ύλη από τη βιομηχανία ηλιακών...Πιο -
![Κασσίτερος (Sn) Sputtering Στόχος]()
Κασσίτερος (Sn) Sputtering ΣτόχοςΟ στόχος εκτόξευσης τιτανίου είναι κατασκευασμένος από μέταλλο τιτανίου. Ως μέταλλο, το τιτάνιο αναγνωρίζεται για την υψηλή αναλογία αντοχής προς βάρος. Είναι ένα ισχυρό μέταλλο με χαμηλή...Πιο -
![Τιτάνιο (Ti) Sputtering Target]()
Τιτάνιο (Ti) Sputtering TargetΟ στόχος εκτόξευσης τιτανίου είναι κατασκευασμένος από μέταλλο τιτανίου. Ως μέταλλο, το τιτάνιο αναγνωρίζεται για την υψηλή αναλογία αντοχής προς βάρος. Είναι ένα ισχυρό μέταλλο με χαμηλή...Πιο -
![Στόχος βολφραμίου (W) Sputtering]()
Στόχος βολφραμίου (W) SputteringΟι στόχοι εκτόξευσης βολφραμίου είναι κατασκευασμένοι από μέταλλο βολφραμίου υψηλής καθαρότητας, το οποίο είναι συνήθως εύθραυστο και δύσκολο στην επεξεργασία. Εάν το βολφράμιο κατασκευάζεται σε...Πιο -
![Βανάδιο (V) Στόχος επισκέψεων]()
Βανάδιο (V) Στόχος επισκέψεωνΟ στόχος εκτόξευσης βαναδίου μοιράζεται ιδιότητες με το αρχικό υλικό του. Το βανάδιο είναι ένα χημικό στοιχείο με σύμβολο V και ατομικό αριθμό 23. Είναι ένα σκληρό, ασημί-γκρι, όλκιμο, εύπλαστο...Πιο
Είμαστε επαγγελματίες προμηθευτές υλικών επίστρωσης pvd στην Κίνα, ειδικευμένοι στην παροχή υψηλής ποιότητας προσαρμοσμένων υπηρεσιών. Σας καλωσορίζουμε θερμά για να αγοράσετε υλικό επίστρωσης pvd με έκπτωση σε απόθεμα εδώ και να λάβετε δωρεάν δείγμα από το εργοστάσιό μας. Για διαβούλευση τιμών, επικοινωνήστε μαζί μας.