Στόχοι κατάδυσης κραμάτων

• Στόχος ψεκασμού zrti

  Ο στόχος ψεκασμού ZRTI χρησιμοποιείται κυρίως στη βιομηχανία ηλεκτρονικών πληροφοριών, στον τομέα της επικάλυψης γυαλιού, στα υλικά ανθεκτικά στη διάβρωση υψηλής θερμοκρασίας, στα διακοσμητικά...

  Πιο
• Στόχοι ψεκασμού ZRTI

  Οι στόχοι ψεκασμού ZRTI είναι ένας από τους κοινώς χρησιμοποιούμενους στόχους μεταλλικού ψεκασμού, οι οποίοι μπορούν να χωριστούν σε επίπεδες στόχους, ψεκασμένους στόχους και περιστρεφόμενους...

  Πιο
• Ζιρκόνιο Titanium ZRTI Στόχος ψεκασμού

  Ο στόχος ψεκασμού zrti zirconium zrti χρησιμοποιείται ευρέως σε επικάλυψη κενού ιόντων πολλαπλών τόξων ή pvd sputtering magnetron στη βιομηχανία και μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως υλικά ανθεκτικά στη...

  Πιο
• Στόχος ψεκασμού πυριτίου τιτανίου

  Ο στόχος ψεκασμού πυριτίου τιτανίου έχει τα χαρακτηριστικά της υψηλής μηχανικής αντοχής, της αντοχής της καλής φθοράς, της ισχυρής αντοχής στη διάβρωση και της καλής αντοχής των επιπτώσεων,...

  Πιο
• Στόχος ψεκασμού κράματος CR-TI

  Οι επικαλύψεις υψηλής ποιότητας λεπτών υδατογράφων που διαμορφώνονται από τον στόχο ψεκασμού από κράμα CR-TI δεν χρησιμοποιούνται μόνο ως διακοσμητικές επικαλύψεις για ρολόγια, ηλεκτρονικά,...

  Πιο
• Στόχος ψεκασμού τιτανίου χρωμίου τιτανίου

  Τα κράματα χρωμίου τιτανίου χρησιμοποιούνται συχνά στον βιομηχανικό τομέα, κυρίως για την παραγωγή συμπυκνωτών σε σταθμούς ηλεκτροπαραγωγής, τμήματα συμπιεστή για κινητήρες, ηλεκτρόδια στη...

  Πιο
• Ο στόχος ψεκασμού κράματος χρωμίου τιτανίου

  Ο στόχος ψεκασμού από κράμα τιτανίου χρωμίου έχει τα χαρακτηριστικά της ισχυρής αντοχής στην κρούση, της υψηλής αντοχής στη διάβρωση, της υψηλής ποιότητας της επίστρωσης, της μακράς διάρκειας ζωής...

  Πιο
• Στόχος εκτόξευσης τιτανίου βολφραμίου (WTi).

  Οι στόχοι εκτόξευσης τιτανίου βολφραμίου παράγονται με τεχνολογία μεταλλουργίας σκόνης που χρησιμοποιούνται ευρέως για ηλιακά κύτταρα ημιαγωγών και λεπτής μεμβράνης.

  Πιο
• Αλουμίνιο Νεοδύμιο (AlNd) Sputtering Target

  Το κράμα νεοδυμίου αλουμινίου είναι ένας ευρέως χρησιμοποιούμενος στόχος διασκορπισμού μαγνητρονίων. Το αλουμίνιο έχει σημείο τήξης 660 μοίρες, πυκνότητα 2,7 και θερμική αγωγιμότητα 0,53, ενώ το...

  Πιο
• Αλουμινένιος Χαλκός (AlCu) Στόχος επιμετάλλωσης

  Ο στόχος εκτόξευσης χαλκού αλουμινίου είναι τέλειος για μια σειρά από βιομηχανίες και εφαρμογές, λόγω της υψηλής σκληρότητας, της αντοχής σε εφελκυσμό και του μικρού βάρους του. Έχει συνήθως 1-3%...

  Πιο
• Στόχος σκανδίου αλουμινίου (AlSc).

  Το σκάνδιο έχει καλή επίδραση ενίσχυσης της διασποράς στο αλουμίνιο. Είναι μια σταθερή δομή χωρίς ανακρυστάλλωση κατά τη διάρκεια της θερμής εργασίας ή της κατάστασης ανόπτησης. Ορισμένα κράματα...

  Πιο
• Στόχος διασκορπισμού πυριτίου αλουμινίου (AlSi).

  Οι στόχοι παρασκευάζονται με ανάμειξη σκόνης αλουμινίου και πυριτίου που ακολουθείται από συμπίεση σε πλήρη πυκνότητα. Τα έτσι συμπιεσμένα υλικά προαιρετικά πυροσυσσωματώνονται και στη συνέχεια...

  Πιο