Στόχοι TiAl

• Φύλλα κράματος mo-la

  Τα φύλλα κράματος MO-LA είναι κατάλληλα για φωτισμό, ηλεκτρικές συσκευές κενού, σωληνοειδή συστατικά σε συσκευές ημιαγωγών ισχύος, εσωτερικά τμήματα λαμπτήρων, θέρμανση των κλιβών από γυάλινες...

  Πιο
• Στόχοι τιτανίου-αλουμινίου

  Οι στόχοι τιτανίου-αλουμινίου μπορούν να βελτιώσουν τη διάρκεια της σκληρότητας και της υπηρεσίας των εργαλείων κοπής και χρησιμοποιούνται ευρέως σε επικαλύψεις εργαλείων υλικού, διακοσμητικές...

  Πιο
• Τιτάνιο βαθμού 7 στρογγυλό μπαρ

  Το στρογγυλό μπαρ του Titanium 7 είναι κατασκευασμένο από ανθεκτικό στη διάβρωση κράμα τιτανίου-πατινίου μέσω της διαδικασίας μεταλλουργίας σε σκόνη. Μπορούν να χρησιμοποιηθούν ευρέως στην...

  Πιο
• Titanium αλουμινίου TI-al στρογγυλός στόχος

  Ο στρογγυλός στόχος TITANIUM αλουμινίου TI-AL χρησιμοποιούνται συνήθως μεταλλικοί στόχοι για επικάλυψη κενού. Διαφορετικές ιδιότητες μπορούν να ληφθούν με την ανάμειξη του περιεχομένου του...

  Πιο
• Στόχος ψεκασμού από κράμα αλουμινίου τιτανίου

  Titanium αλουμινίου αλουμινίου στόχος από την προηγμένη διαδικασία θερμού ισοστατικής πίεσης. Αυτά χρησιμοποιούνται συνήθως στην επικάλυψη εργαλείων υλικού, στη διακοσμητική επικάλυψη, στα...

  Πιο
• Στρογγυλό μπαρ αλουμινίου Titanium

  Το στρογγυλό μπαρ αλουμινίου Titanium χρησιμοποιείται στο αεροδιαστημικό πεδίο (χρησιμοποιείται για την κατασκευή αεροσκαφών, πυραύλων, δορυφόρων και άλλων πτήσεων), της βιομηχανίας αυτοκινήτων...

  Πιο
• Titanium Aluminium Tial Pvdtarget

  Το Titanium Aluminium Tial PVD στόχος μπορεί επίσης να χρησιμοποιηθεί για την κατασκευή επικαλύψεων για τρυπάνια και άλλα εργαλεία και μήτρες. Αυτές οι επικαλύψεις μπορούν να βελτιώσουν σημαντικά...

  Πιο
• Στόχος ψεκασμού

  Ο στόχος ψεκασμού μπορεί να εκτοξεύσει σκληρές και ανθεκτικές στην οξείδωση επικαλύψεις νιτριδίου (Tialn) σε τρυπάνια, κοπτήρες, ένθετα κοπής και άλλα εργαλεία και να βελτιώσει τον ρυθμό...

  Πιο
• Στόχος ψεκασμού κράματος TI-al

  Ο στόχος ψεκασμού κράματος Tial είναι πολύ κατάλληλος για διάφορες μεταλλουργικές επικαλύψεις εργαλείων, επικαλύψεις επίπεδης οθόνης (όπως ρολόγια, κινητά τηλέφωνα και υπολογιστές) και...

  Πιο
• TARGET TI-AL Alloy PVD

  Ο στόχος PVD από κράμα TI-AL είναι συχνά κατασκευασμένο από τη μέθοδο χύτευσης τήξης και τη μέθοδο πυροσυσσωμάτωσης σε σκόνη και μπορεί να χρησιμοποιηθεί ευρέως σε πολλά πεδία επικάλυψης κενού...

  Πιο
• Στόχος ψεκασμού κράματος αλουμινίου

  Ο στόχος ψεκασμού από κράμα αλουμινίου αλουμινίου παράγεται γενικά από τη διαδικασία θερότητας ισοστατικής πίεσης, η οποία έχει μικρότερο μέγεθος κόκκων και πιο ομοιόμορφη μικροσκοπική εσωτερική...

  Πιο
• Στόχος ψεκασμού αλουμινίου Al-Ti

  Ο στόχος ψεκασμού αλουμινίου Al-Ti γίνεται συχνά με τη μέθοδο κατασκευής τήξης κενού. Έχει μια σειρά από εξαιρετικές ιδιότητες του τιτανίου και του ζιρκονίου, όπως η υψηλή σκληρότητα, η αντοχή σε...

  Πιο