Στόχοι TiAl

• Ti33Al67 Στόχος

  Τα προϊόντα εφαρμόζονται σε διάφορα πεδία επίστρωσης κενού με διάφορες μεθόδους (με διασκορπισμό με μαγνήτρο, επιμετάλλωση κενού κ.λπ.): Επιστημονική έρευνα, αεροδιαστημική, αυτοκινητοβιομηχανία,...

  Πιο
• Στόχευση με ψεκασμό Ti50Al50

  Τα Sputtering Targets Ti50Al50 παράγονται με τεχνολογία HIP, που χρησιμοποιούνται ευρέως για επικάλυψη εργαλείων και διακοσμητική επίστρωση. Σε σύγκριση με την τεχνολογία τήξης, οι στόχοι TiAl που...

  Πιο
• Στόχοι PVD από κράμα αλουμινίου τιτανίου

  Οι στόχοι PVD από κράμα αλουμινίου τιτανίου έχουν υψηλή καθαρότητα. Ανώτερη απόδοση. Αντοχή σε υψηλή θερμοκρασία. Ομοιομορφία μεγέθους κόκκου.

  Πιο
• Στόχοι αλουμινίου από τιτάνιο

  Η Yitech παράγει Στόχους Αλουμινίου Τιτανίου με την προηγμένη διαδικασία θερμής ισοστατικής συμπίεσης. Αυτά χρησιμοποιούνται συνήθως σε επίστρωση εργαλείων υλικού, διακοσμητική επίστρωση,...

  Πιο