Στόχος βολφραμίου (W) Sputtering

Οι στόχοι εκτόξευσης βολφραμίου είναι κατασκευασμένοι από μέταλλο βολφραμίου υψηλής καθαρότητας, το οποίο είναι συνήθως εύθραυστο και δύσκολο στην επεξεργασία. Εάν το βολφράμιο κατασκευάζεται σε πολύ καθαρό υλικό, μπορεί να διατηρήσει τη σκληρότητά του (περισσότερη από αυτή πολλών χάλυβων) και έχει αρκετή ολκιμότητα για να διευκολύνει την επεξεργασία του. Επεξεργάζεται με σφυρηλάτηση, τέντωμα ή εξώθηση. Τα αντικείμενα βολφραμίου σχηματίζονται επίσης συνήθως με πυροσυσσωμάτωση.

Από όλα τα μέταλλα σε καθαρή μορφή, το βολφράμιο έχει το υψηλότερο σημείο τήξης (3422 βαθμοί, 6192 βαθμοί F), τη χαμηλότερη πίεση ατμών (σε θερμοκρασίες πάνω από 1650 βαθμούς, 3000 βαθμούς F) και την υψηλότερη αντοχή σε εφελκυσμό. Το βολφράμιο έχει τον χαμηλότερο συντελεστή θερμικής διαστολής από οποιοδήποτε καθαρό μέταλλο. Η χαμηλή θερμική διαστολή και το υψηλό σημείο τήξης και η αντοχή σε εφελκυσμό του βολφραμίου προέρχονται από ισχυρούς ομοιοπολικούς δεσμούς που σχηματίζονται μεταξύ ατόμων βολφραμίου από τα ηλεκτρόνια 5d. Η κράμα μικρών ποσοτήτων βολφραμίου με χάλυβα αυξάνει σημαντικά τη σκληρότητά του.

WTi sputtering στόχος

WS2 sputtering στόχος

WO3 sputtering στόχος

WSi2 sputtering στόχος

Δημοφιλείς Ετικέτες: βολφραμίου (w) sputtering στόχος, Κίνα βολφραμίου (w) sputtering στόχος προμηθευτές, εργοστάσιο