Στόχοι επικάλυψης μετάλλων
-
Χαλκός (Cu) Sputtering TargetΟ χάλκινος στόχος εκτόξευσης έχει τις ίδιες ιδιότητες με τον μεταλλικό χαλκό (Cu). Ο χαλκός είναι ένα χημικό στοιχείο με το σύμβολο Cu (από τα λατινικά: cuprum) και ατομικό αριθμό 29. Είναι ένα...Πιο
-
Δυσπρόσιο (Dy) Sputtering TargetΟ στόχος διασκορπισμού δυσπρόσιο είναι ένας ασημένιος μεταλλικός στόχος κατασκευασμένος από μέταλλο δυσπρόσιο (Dy) υψηλής καθαρότητας. Έχει σημείο τήξης 1420 μοίρες, σημείο βρασμού 2840 μοίρες και...Πιο
-
Έρβιο (Er) Sputtering TargetΤο έρβιο είναι ένα χημικό στοιχείο της σειράς των λανθανιδών, με σύμβολο Er και ατομικό αριθμό 68. Ένα ασημί-λευκό στερεό μέταλλο όταν απομονώνεται τεχνητά, το φυσικό έρβιο βρίσκεται πάντα σε...Πιο
-
Γαδολίνιο (Gd) Sputtering TargetΟ στόχος εκτόξευσης γαδολίνιου αποτελείται από μέταλλο ευρωπίου υψηλής καθαρότητας (Gd). Έχει σημείο τήξης 1312 μοίρες, σημείο βρασμού 3250 μοίρες και πυκνότητα 7,895 g/cm3. Το γαδολίνιο είναι ένα...Πιο
-
Γερμάνιο (Ge) Sputtering TargetΤο γερμάνιο είναι ένα χημικό στοιχείο με το σύμβολο Ge και τον ατομικό αριθμό 32. Είναι ένα γυαλιστερό, σκληρό εύθραυστο, γκριζόλευκο μεταλλοειδές στην ομάδα άνθρακα, χημικά παρόμοιο με το πυρίτιο...Πιο
-
Χόλμιο (Ho) Sputtering TargetΤο Holmium sputtering target είναι ένας ασημένιος μεταλλικός στόχος κατασκευασμένος από μέταλλο Holmium (Ho) υψηλής καθαρότητας. Έχει σημείο τήξης 1474 μοίρες, σημείο βρασμού 2695 μοίρες και...Πιο
-
Χάφνιο (Hf) Στόχος επισκέψεωνΟ στόχος εκτόξευσης αφνίου έχει την ίδια απόδοση με το μεταλλικό άφνιο (Hf). Άφνιο με σημείο τήξης 2233 βαθμούς, σημείο βρασμού 4603 βαθμούς και πυκνότητα 13,31 g/cm3. Είναι ένα γυαλιστερό...Πιο
-
Ίνδιο (In) Sputtering TargetΟ στόχος διασκορπισμού ινδίου είναι ένας ασημί γυαλιστερός γκρι στόχος που αποτελείται από ίνδιο υψηλής καθαρότητας (In). Το σημείο τήξεώς του είναι 156,61 μοίρες, το σημείο βρασμού είναι 2060...Πιο
-
Βισμούθιο (Bi) Sputtering TargetΤο βισμούθιο είναι ένα λευκό, κρυσταλλικό, εύθραυστο μέταλλο με ροζ απόχρωση. Το βισμούθιο είναι το πιο διαμαγνητικό από όλα τα μέταλλα και η θερμική αγωγιμότητα είναι χαμηλότερη από οποιοδήποτε...Πιο
-
Αλουμίνιο (Al) Sputtering TargetΟ στόχος εκτόξευσης αλουμινίου έχει την ίδια λειτουργία με το μεταλλικό αλουμίνιο. Το αλουμίνιο είναι ένα χημικό στοιχείο με σύμβολο Al και ατομικό αριθμό 13. Είναι ένα ασημί-λευκό, μαλακό, μη...Πιο
-
Tantalum (Ta) Sputtering TargetΣτοιχείο Σύμβολο: TaΠιο
Καθαρότητα: 3N5, 4N, 4N5, 5N
Σχήμα: Επίπεδος στόχος, Περιστροφικός στόχος
Είμαστε επαγγελματίες προμηθευτές στόχων μεταλλικής επικάλυψης στην Κίνα, ειδικευμένοι στην παροχή υψηλής ποιότητας προσαρμοσμένων υπηρεσιών. Σας καλωσορίζουμε θερμά για να αγοράσετε εκπτωτικούς στόχους μεταλλικής επικάλυψης σε απόθεμα εδώ και να λάβετε δωρεάν δείγμα από το εργοστάσιό μας. Για διαβούλευση τιμών, επικοινωνήστε μαζί μας.
