Χάφνιο (Hf) Στόχος επισκέψεων

Ο στόχος εκτόξευσης αφνίου έχει την ίδια απόδοση με το μεταλλικό άφνιο (Hf). Άφνιο με σημείο τήξης 2233 βαθμούς, σημείο βρασμού 4603 βαθμούς και πυκνότητα 13,31 g/cm3. Είναι ένα γυαλιστερό ασημί-γκρι μεταβατικό μέταλλο. Το μεταλλικό άφνιο έχει μέτρια αντοχή, καλή αντοχή στη διάβρωση και υψηλή ικανότητα απορρόφησης νετρονίων. Χρησιμοποιείται ευρέως στη βιομηχανία ατομικής ενέργειας. Το άφνιο μπορεί να σχηματίσει μια ποικιλία κραμάτων και μπορεί επίσης να χρησιμοποιηθεί ως επιφανειακή επίστρωση για βασικά μέταλλα. Μπορούμε να παρέχουμε εισαγόμενο άφνιο υψηλής καθαρότητας με χαμηλή περιεκτικότητα σε ζιρκόνιο, το οποίο μπορεί να υποστεί επεξεργασία σε στόχους και σωματίδια.

Με την εισαγωγή της μερικής πίεσης του οξυγόνου, η μεμβράνη οξειδίου του αφνίου μπορεί να παρασκευαστεί με ηλεκτρική εκτόξευση ή αντιδραστική ψεκασμό με στόχο εκτόξευσης αφνίου. Το λεπτό φιλμ που προκύπτει μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε ποικίλες εφαρμογές, συμπεριλαμβανομένων των οπτικών επικαλύψεων για φωτονικά, αντίστασης λεπτής μεμβράνης, αντοχής στη διάβρωση, πυρηνικών προϊόντων, μονωτών πύλης σε ολοκληρωμένα κυκλώματα και αισθητήρων.

NiHf sputtering στόχος

NbHfTi sputtering στόχος

Στόχος εκτόξευσης HfO2

HfC sputtering στόχος

Στόχος διασκορπισμού HfB2

Δημοφιλείς Ετικέτες: hafnium (hf) στόχος sputtering, Κίνα hafnium (hf) προμηθευτές στόχου sputtering, εργοστάσιο