Στόχοι βολφραμίου
Στόχοι βολφραμίου

Στόχοι βολφραμίου

Οι στόχοι βολφραμίου είναι επίπεδα αντικείμενα σε σχήμα δίσκου κατασκευασμένα κυρίως από βολφράμιο, το οποίο είναι ένα πυκνό, σκληρό μέταλλο με πολύ υψηλό σημείο τήξης (περίπου 3422 βαθμούς Κελσίου). Αυτοί οι στόχοι χρησιμοποιούνται σε διάφορες βιομηχανικές διεργασίες, ιδιαίτερα στον τομέα της εναπόθεσης λεπτής μεμβράνης και της παραγωγής ακτίνων Χ.
Αποστολή ερώτησής
Περιγραφή

 

Οι στόχοι βολφραμίου είναι επίπεδα αντικείμενα σε σχήμα δίσκου κατασκευασμένα κυρίως από βολφράμιο, το οποίο είναι ένα πυκνό, σκληρό μέταλλο με πολύ υψηλό σημείο τήξης (περίπου 3422 βαθμούς Κελσίου). Αυτοί οι στόχοι χρησιμοποιούνται σε διάφορες βιομηχανικές διεργασίες, ιδιαίτερα στον τομέα της εναπόθεσης λεπτής μεμβράνης και της παραγωγής ακτίνων Χ.

 

Εφαρμογές στόχων βολφραμίου

 

1

Φυσική εναπόθεση ατμών (PVD):Οι στόχοι βολφραμίου χρησιμοποιούνται συνήθως σε διεργασίες PVD, όπως η εκτόξευση και η εξάτμιση. Κατά την εκτόξευση, ο στόχος βομβαρδίζεται με ιόντα υψηλής ενέργειας, τα οποία χτυπούν άτομα ή μόρια από τον στόχο και τα αποθέτουν σε ένα υπόστρωμα, σχηματίζοντας ένα λεπτό φιλμ. Το υψηλό σημείο τήξης και η σκληρότητα του βολφραμίου το καθιστούν ιδανικό υλικό για αυτή τη διαδικασία.

2

Σωλήνες ακτίνων Χ:Σε σωλήνες ακτίνων Χ, οι στόχοι βολφραμίου χρησιμοποιούνται για τη δημιουργία ακτίνων Χ. Όταν τα ηλεκτρόνια υψηλής ταχύτητας χτυπούν τον στόχο, επιβραδύνονται γρήγορα, προκαλώντας την εκπομπή ακτίνων Χ. Ο υψηλός ατομικός αριθμός βολφραμίου ενισχύει την απόδοση παραγωγής ακτίνων Χ.

3

Συγκόλληση με δέσμη ηλεκτρονίων:Οι στόχοι βολφραμίου μπορούν επίσης να χρησιμοποιηθούν στη συγκόλληση με δέσμη ηλεκτρονίων, όπου μια εστιασμένη δέσμη ηλεκτρονίων λιώνει το υλικό στον σύνδεσμο συγκόλλησης.

4

Εμφύτευση ιόντων:Στην εμφύτευση ιόντων, όπου τα ιόντα επιταχύνονται σε ένα στερεό για να αλλάξουν τις ιδιότητές του, χρησιμοποιούνται στόχοι βολφραμίου για την ικανότητά τους να αντέχουν την υψηλή ενέργεια των ιόντων.

 

Ιδιότητες των στόχων βολφραμίου

 

1. Υψηλό σημείο τήξης: Όπως αναφέρθηκε, το βολφράμιο έχει το υψηλότερο σημείο τήξης από οποιοδήποτε στοιχείο, το οποίο είναι ζωτικής σημασίας για την αντοχή στις υψηλές θερμοκρασίες που δημιουργούνται κατά τις διεργασίες PVD και τη δημιουργία ακτίνων Χ.

2. Υψηλή πυκνότητα: Το βολφράμιο έχει υψηλή πυκνότητα, η οποία μπορεί να είναι ευεργετική σε εφαρμογές όπου η μάζα και η αδράνεια είναι σημαντικοί παράγοντες.

3. Καλή θερμική αγωγιμότητα: Το βολφράμιο έχει καλή θερμική αγωγιμότητα, η οποία βοηθά στη διάχυση της θερμότητας κατά τη χρήση.

4. Αντίσταση στη φθορά: Η σκληρότητα του βολφραμίου συμβάλλει στην αντοχή του στη φθορά, η οποία είναι σημαντική για τη μακροζωία του στόχου.

 

Κατασκευή στόχων βολφραμίου

 

- Μεταλλουργία Σκόνης: Η σκόνη βολφραμίου συμπιέζεται και στη συνέχεια πυροσυσσωματώνεται για να σχηματιστεί ο στόχος. Αυτή η μέθοδος χρησιμοποιείται συχνά για τη δημιουργία πολύπλοκων σχημάτων ή για στόχους με απαιτήσεις υψηλής καθαρότητας.

- Χύτευση: Το βολφράμιο μπορεί να χυτευθεί στο επιθυμητό σχήμα, αν και αυτή η μέθοδος μπορεί να εισάγει ακαθαρσίες και περιορίζεται από την ικανότητα χύτευσης σύνθετων σχημάτων.

- Μηχανική κατεργασία: Τα συμπαγή τεμάχια βολφραμίου μπορούν να κατεργαστούν στο επιθυμητό σχήμα και μέγεθος χρησιμοποιώντας εξειδικευμένα εργαλεία κοπής που μπορούν να χειριστούν τη σκληρότητα του βολφραμίου.

 

Προδιαγραφή στόχων βολφραμίου

 

Βαθμός

W1,W2

Καθαρότητα

Μεγαλύτερο ή ίσο με 95%

Διάμετρος

0,5 mm-30mm

Πάχος

1-10χιλ

Σημείο Τήξης

3410 μοίρες

Πυκνότητα

18,75 g/cm3

Επιφάνεια

Γυαλισμένο, Τερματισμός στροφής, Γείωση

Χρόνος Παράδοσης

25 μέρες

Πρότυπο

ASTM, GB

 

Δημοφιλείς Ετικέτες: Στόχοι βολφραμίου, Κίνα προμηθευτές στόχων βολφραμίου, εργοστάσιο