Μαγγάνιο (Mn) Sputtering Target
Μαγγάνιο (Mn) Sputtering Target

Μαγγάνιο (Mn) Sputtering Target

Το μαγγάνιο είναι ένα σκληρό, εύθραυστο, αργυρόχρωμο μέταλλο. Το μαγγάνιο είναι πολύ εύθραυστο για να είναι πολύ χρήσιμο ως καθαρό μέταλλο. Χρησιμοποιείται κυρίως σε κράματα, όπως ο χάλυβας. Ο χάλυβας περιέχει περίπου 1% μαγγάνιο, για να αυξήσει την αντοχή και επίσης να βελτιώσει την εργασιμότητα και την αντοχή στη φθορά. Ο χάλυβας μαγγανίου περιέχει περίπου 13% μαγγάνιο.
Αποστολή ερώτησής
Περιγραφή προϊόντων

 

Το μαγγάνιο είναι ένα σκληρό, εύθραυστο, αργυρόχρωμο μέταλλο. Το μαγγάνιο είναι πολύ εύθραυστο για να είναι πολύ χρήσιμο ως καθαρό μέταλλο. Χρησιμοποιείται κυρίως σε κράματα, όπως ο χάλυβας. Ο χάλυβας περιέχει περίπου 1% μαγγάνιο, για να αυξήσει την αντοχή και επίσης να βελτιώσει την εργασιμότητα και την αντοχή στη φθορά. Ο χάλυβας μαγγανίου περιέχει περίπου 13% μαγγάνιο. Είναι εξαιρετικά ανθεκτικό και χρησιμοποιείται για σιδηροδρομικές γραμμές, χρηματοκιβώτια, κάννες τουφεκιού και ράβδους φυλακής. Τα κουτιά ποτών είναι κατασκευασμένα από κράμα αλουμινίου με 1,5% μαγγάνιο, για βελτίωση της αντοχής στη διάβρωση. Με αλουμίνιο, αντιμόνιο και χαλκό σχηματίζει εξαιρετικά μαγνητικά κράματα.

 

Απαιτήσεις Sputtering Targets

 

Γενικές απαιτήσεις όπως μέγεθος, επιπεδότητα, καθαρότητα, περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες, πυκνότητα, N/O/C/S, μέγεθος κόκκου και έλεγχος ελαττωμάτων. Οι ειδικές απαιτήσεις περιλαμβάνουν τραχύτητα επιφάνειας, τιμή αντίστασης, ομοιομορφία μεγέθους κόκκου, ομοιομορφία σύνθεσης και ιστού, μαγνητική αγωγιμότητα, εξαιρετικά υψηλή πυκνότητα, εξαιρετικά λεπτούς κόκκους κ.λπ.

 

Εφαρμογές στόχων μαγγανίου

 

Το Manganese Sputtering Target χρησιμοποιείται κυρίως στη βιομηχανία ηλεκτρονικών και πληροφοριών, στον τομέα επικάλυψης γυαλιού, ανθεκτικά στη φθορά υλικά, αντοχή στη διάβρωση σε υψηλή θερμοκρασία, διακοσμητικά προϊόντα υψηλής ποιότητας και σε άλλες βιομηχανίες.

 

Προδιαγραφές μαγγανίου (Mn).

 

Τύπος Υλικού

Μαγγάνιο

Σύμβολο

Mn

Ατομικό βάρος

54.938045

Ατομικός αριθμός

25

Χρώμα/Εμφάνιση

Ασημί μεταλλικό

Θερμική αγωγιμότητα

7.8 W/m.K

Σημείο τήξης (βαθμός)

1,244

Συντελεστής θερμικής διαστολής

21.7 x 10-6/K

 

Σχετικά Υλικά Sputtering

 

CuNiMn sputtering στόχος

Στόχος επιμετάλλωσης CUMnAl

Στόχος εκτόξευσης MnO2

 

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος sputtering μαγγανίου (mn), προμηθευτές στόχων sputtering μαγγανίου (mn) Κίνας, εργοστάσιο