Περιγραφή προϊόντων
Το Molybdenum Oxide Sputtering Target μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε ημιαγωγούς, χημική εναπόθεση ατμών (CVD), φυσική εναπόθεση ατμών (PVD) και οπτικές εφαρμογές. Είμαστε προμηθευτής υψηλής ποιότητας Οξειδίου του Μολυβδαινίου Sputtering Target σε ανταγωνιστικές τιμές.
Το φιλμ οξειδίου του μολυβδαινίου έχει εξαιρετικές ηλεκτρικές, οπτικές και φυσικές επιφανειακές ιδιότητες και μπορεί να χρησιμοποιηθεί ευρέως σε διόδους εκπομπής φωτός (OLED), συσκευές οθόνης υγρών κρυστάλλων (LCD), πάνελ οθόνης πλάσματος (PDP), πίνακες απεικόνισης εκπομπών πεδίου (FED), ηλιακά κύτταρα λεπτής μεμβράνης, υλικά ωμικής επαφής χαμηλής αντίστασης και άλλα ηλεκτρονικά υλικά και υλικά ημιαγωγών.
Πεδία εφαρμογής τριοξειδίου του μολυβδαινίου
Με βάση τις εξαιρετικές ιδιότητες και το ευρύ φάσμα χρήσεων του τριοξειδίου του μολυβδαινίου, χρησιμοποιείται σε πολλούς τομείς:
Χημική βιομηχανία
Το τριοξείδιο του μολυβδαινίου χρησιμοποιείται ευρέως στη χημική βιομηχανία στην παρασκευή καταλυτών, την καταλυτική υδρογόνωση, την αντίδραση πολυμερισμού και την οργανική σύνθεση. Μπορεί να προάγει χημικές αντιδράσεις ρυθμίζοντας την καταλυτική δραστηριότητα και την εκλεκτικότητα.
Οπτοηλεκτρονική
Λόγω των ημιαγωγικών του ιδιοτήτων και των επιδράσεων σε νανοκλίμακα, το τριοξείδιο του μολυβδαινίου έχει ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών στον τομέα της οπτοηλεκτρονικής. Για παράδειγμα, μπορεί να χρησιμοποιηθεί στην παρασκευή οπτοηλεκτρονικών συσκευών όπως ηλιακά κύτταρα, φωτοανιχνευτές και οθόνες υγρών κρυστάλλων.
Επιστήμη υλικών
Με βάση τη μοναδική δομή και τις φυσικές ιδιότητες του τριοξειδίου του μολυβδαινίου, έχει ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών στον τομέα της επιστήμης των υλικών. Για παράδειγμα, μπορεί να χρησιμοποιηθεί στην παρασκευή λιπαντικών υψηλής θερμοκρασίας, πυρίμαχων υλικών και υλικών ανθεκτικών σε υψηλές θερμοκρασίες.
Προσδιορισμός
|
Σχήμα |
Δίσκος/Ορθογώνιος/Σωλήνας |
|
Συγκόλληση |
Αποδέσμευση/Συγκόλληση |
|
Σύμβολο |
MoO3 |
|
Καθαρότητα |
99.90% |
Δημοφιλείς Ετικέτες: Οξείδιο του μολυβδαινίου (moo3) sputtering στόχος, Κίνα οξείδιο του μολυβδαινίου (moo3) sputtering στόχος, εργοστάσιο


