Περιγραφή προϊόντων
Το υλικό στόχου ITO, το οξείδιο του κασσιτέρου ινδίου, είναι ένα σημαντικό διαφανές αγώγιμο υλικό. Στον τομέα της προετοιμασίας λεπτών φιλμ, οι στόχοι ITO χρησιμοποιούνται ευρέως ως βασική πρώτη ύλη σε ηλεκτρονικές και οπτοηλεκτρονικές συσκευές. Μπορεί να παρέχει καλή αγωγιμότητα διατηρώντας παράλληλα υψηλή διαφάνεια, καθιστώντας το ITO ιδανική επιλογή για την προετοιμασία διαφανών αγώγιμων μεμβρανών.
Ανάλυση Σύνθεσης και Χημική Σύνθεση
Οξείδιο κασσιτέρου ινδίου ITO Sputtering Target
Το υλικό στόχος ITO είναι μια ένωση που σχηματίζεται από δύο στοιχεία, το ίνδιο (In) και τον κασσίτερο (Sn), σε ένα οξειδωτικό περιβάλλον. Ο χημικός τύπος είναι In2O3: SnO2, και τυπικά, η αναλογία ινδίου προς κασσίτερο κατά βάρος είναι περίπου 90:10. Αυτός ο συγκεκριμένος χημικός συνδυασμός εξασφαλίζει υψηλή διαφάνεια και εξαιρετική αγωγιμότητα του υλικού. Η κύρια λειτουργία του ινδίου είναι να παρέχει υψηλή αγωγιμότητα και η προσθήκη κασσίτερου χρησιμοποιείται για να ενισχύσει τη χημική σταθερότητα και τη μηχανική σκληρότητα ολόκληρου του υλικού.
ΦΥΣΙΚΕΣ ΚΑΙ ΧΗΜΙΚΕΣ ΙΔΙΟΤΗΤΕΣ
Οπτική διαφάνεια: Το ITO εμφανίζει υψηλό βαθμό διαφάνειας, ειδικά στη ζώνη του ορατού φωτός, γεγονός που το καθιστά ιδιαίτερα κρίσιμο σε εφαρμογές όπως οθόνες LCD και οθόνες αφής.
Αγωγιμότητα: Η αγωγιμότητα του ITO είναι ένα άλλο σημαντικό χαρακτηριστικό, που αποδίδεται κυρίως στην ηλεκτρονική δομή του οξειδίου του κασσιτέρου του ινδίου, καθιστώντας το ιδανικό αγώγιμο υλικό, ειδικά σε εφαρμογές που απαιτούν διαφανή ηλεκτρόδια.
Θερμική σταθερότητα: Σε υψηλές θερμοκρασίες, το ITO μπορεί να διατηρήσει τη σταθερότητα των χημικών και φυσικών του ιδιοτήτων, κάτι που είναι ζωτικής σημασίας για ηλεκτρονικές συσκευές που λειτουργούν σε υψηλές θερμοκρασίες.
Μηχανική σκληρότητα: Αν και το ITO έχει έναν ορισμένο βαθμό ευθραυστότητας, η μηχανική του σκληρότητα εξακολουθεί να είναι επαρκής για να καλύψει τις απαιτήσεις των περισσότερων ηλεκτρονικών εφαρμογών.
|
Ονομα |
ITO Sputtering Target Keramic Target Oxide Indium Tin Oxide (Στόχοι ITO) |
|
Υλικό |
Υλικά μετάλλων ινδίου |
|
Καθαρότητα |
99,9%-99,999%, 3N,3N5,4N,5N κ.λπ. |
|
Μέγεθος |
D50,8x3mm,1-10mm, D3x3mm, 2inch,3inch,Ή Κατόπιν αιτήματος |
|
Χρώμα |
Μαύρο χρώμα |
|
Σχήμα |
προσαρμοσμένη |
|
Επιφάνεια |
Γυαλισμένη επιφάνεια |
|
Πυκνότητα |
7,31 g/cm3 |
|
Σημείο τήξης |
156 μοίρες |
|
Εφαρμογή |
Επικάλυψη φιλμ PVD, επίστρωση οπτικού λεπτού φιλμ, χρήση βιομηχανίας, διαδικασία, περιοχή ημιαγωγών, πειράματα κ.λπ. |
Δημοφιλείς Ετικέτες: Προμηθευτές στόχων sputtering οξείδιο του κασσιτέρου ινδίου (ito), Κίνα οξείδιο του κασσιτέρου ινδίου (ito), εργοστάσιο
