Περιγραφή προϊόντων
Ο στόχος εκτόξευσης τανταλίου εφαρμόζεται κυρίως στη βιομηχανία ημιαγωγών και τη βιομηχανία οπτικών επικαλύψεων. Κατασκευάζουμε διάφορες προδιαγραφές στόχων εκτόξευσης τανταλίου κατόπιν αιτήματος πελατών από τη βιομηχανία ημιαγωγών και τη βιομηχανία οπτικών μέσω της μεθόδου τήξης σε φούρνο κενού EB. Παράγουμε διαφορετικές διαστάσεις των στόχων εκτόξευσης τανταλίου, όπως δισκοσκοπικούς στόχους, ορθογώνιους στόχους και περιστροφικούς στόχους.
Προσδιορισμός
Παράγουμε στόχους R05200, R05400 που πληρούν το πρότυπο ASTM B708 και μπορούμε να κάνουμε στόχους σύμφωνα με τα παρεχόμενα σχέδιά σας. Εκμεταλλευόμενοι τα υψηλής ποιότητας πλινθώματα τανταλίου, τον προηγμένο εξοπλισμό, την καινοτόμο τεχνολογία, την επαγγελματική ομάδα μας, προσαρμόσαμε τους απαιτούμενους στόχους σας.
Χαρακτηριστικά
Ράβδος Tanatlum, Καθαρότητα 99,95% 99,95%, ASTM B365-98
Βαθμός: RO5200, RO5400
Πρότυπο παραγωγής: ASTM B365-98
Προσδιορισμός
Μεταλλικές προσμίξεις, ppm max κατά βάρος, Balance - Tantalum
|
Στοιχείο |
Fe |
Μο |
Σημ |
Ni |
Σι |
Ti |
W |
|
Περιεχόμενο |
100 |
200 |
1000 |
100 |
50 |
100 |
50 |
Μηχανικές ιδιότητες
|
Διάμετρος (mm) |
Φ3.18-63.5 |
|
Απόλυτη αντοχή σε εφελκυσμό (MPa) |
172 |
|
Ισχύς διαρροής (MPa) |
103 |
|
Επιμήκυνση (%, 1-σε μήκος μετρητή) |
25 |
Δημοφιλείς Ετικέτες: Προμηθευτές δίσκων στόχου τανταλίου sputtering, Κίνα, εργοστάσιο
